Вход на сайт

Оптимізація процесів тамподруку на всотуючих підкладках

УДК 655.224.6:655.354
     Мудрак Є. (Інститут поліграфії Варшавської політехніки (Варшава, Польща), Снігур Н., Ярка Н. (Українська академія друкарства (УАД, Львів, Україна)
Оптимізація процесів тамподруку на всотуючих підкладках. — 2006. — № 4(14). — С. 28—32.
     Здійснено оптимізацію чинників тамподруку при друкуванні на всотувальних поверхнях.
     Мова статті (укр.).
     Іл. 4. Табл. 2. Бібліогр.: 5 назв.